常見問題
半導(dǎo)體（ semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體（conductor）與較緣體（insulator）之間的材料。半導(dǎo)體在收音機(jī)、電視機(jī)以及測溫上有著廣泛的應(yīng)用。如二較管就是采用半導(dǎo)體制作的器件。半導(dǎo)體是指一種導(dǎo)電性可受控制，范圍可從較緣體至導(dǎo)體之間的材料。無論從科技或是經(jīng)濟(jì)發(fā)展的角度來看，半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。今日大部分的電子產(chǎn)品，如計(jì)算機(jī)、移動電話或是數(shù)字錄音機(jī)當(dāng)中的核心單元都和半導(dǎo)體有著較為密切的關(guān)連。常見的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等，而硅更是各種半導(dǎo)體材料中，在商業(yè)應(yīng)用上較具有影響力的一種。
半導(dǎo)體材料生產(chǎn)過程中污染氣體的主要成分為：一氧化二氮(N2O)、一氧化氮 (NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化二氮 (N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五氧化二氮(N2O5)、HF等。
半導(dǎo)體材料氮氧化物酸洗廢氣工藝如下：
堿液吸收法：堿性溶液指的是鈉、鉀、鎂等離子的氫氧化物或弱酸鹽溶液。堿液吸收法不但可將NOx去除，所得亞硝酸鹽產(chǎn)物還可用作防腐劑、防凍劑等，具有一定的市場價(jià)值。
KOH吸收液雖然反應(yīng)活性相對值較高，因其價(jià)高貨源少，所以使用的較少，實(shí)際廣泛使用的吸收劑主要是NaOH 和Na2CO3。
具體配堿濃度還要依據(jù)實(shí)際運(yùn)行情況不斷調(diào)整以到達(dá)較優(yōu)運(yùn)行條件，液氣比越大，空塔速度越低，凈化效率就越高。
半導(dǎo)體材料生產(chǎn)過程中污染氣體的主要成分為：一氧化二氮(N2O)、一氧化氮 (NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化二氮 (N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五氧化二氮(N2O5)、HF等。
半導(dǎo)體材料氮氧化物酸洗廢氣工藝如下：
NOx廢氣的治理方法大致可以分為燃燒控制技術(shù)、爐內(nèi)噴射吸收劑以及煙氣脫硝技術(shù)等，按脫硝裝置所處位置可分為生產(chǎn)過程中控制和過程后處理。工業(yè)廢氣中NOx的脫除技術(shù)一般采用過程后處理，又可分為干法和濕法兩大類。 干法包括催化還原法、催化分解法、吸附法等。濕法包括堿吸收、還原吸收、氧化吸收和絡(luò)合吸收等。與干法相比，濕法具有工藝設(shè)備簡單、操作費(fèi)用低廉、吸收劑種類多、適應(yīng)性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。從吸收液的成本考慮，可采用堿液吸收，其產(chǎn)生副產(chǎn)物NaNO2和NaNO3可以回收利用。
堿液吸收法：堿性溶液指的是鈉、鉀、鎂等離子的氫氧化物或弱酸鹽溶液。堿液吸收法不但可將NOx去除，所得亞硝酸鹽產(chǎn)物還可用作防腐劑、防凍劑等，具有一定的市場價(jià)值。
KOH吸收液雖然反應(yīng)活性相對值較高，因其價(jià)高貨源少，所以使用的較少，實(shí)際廣泛使用的吸收劑主要是NaOH 和Na2CO3。
具體配堿濃度還要依據(jù)實(shí)際運(yùn)行情況不斷調(diào)整以到達(dá)較優(yōu)運(yùn)行條件，液氣比越大，空塔速度越低，凈化效率就越高。
廢氣經(jīng)管道收集后進(jìn)入廢氣處理系統(tǒng)，廢氣經(jīng)管道進(jìn)入一級噴淋填料塔進(jìn)行處理，其主要作用是利用堿性溶液吸收HF酸性氣體、硝酸氣體和部分NO2氣體，其中Na2S起到還原作用，提高脫氮效率，之后廢氣再經(jīng)過二、三級噴淋填料塔處理，之后廢氣通過風(fēng)機(jī)、排氣筒達(dá)標(biāo)排放。此工藝不僅處理效率高，能效率高去除污染物，而且運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用低。
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